Как устроен новый материал: POSS + фтор + фотополимеризация
В основе разработки – соединение фторсодержащих мономеров с наноструктурами POSS (полиэдрические олигомерные силсесквиоксаны). POSS – кремнийорганические каркасы наноразмера, которые широко применяются для усиления полимерных материалов. Их комбинация с фторсодержащими компонентами создает гибридную систему, в которой одновременно управляемы как химические, так и физические характеристики материала, сообщает ТАСС со ссылкой на пресс-службу университета.
Для синтеза применялся метод фотоконтролируемой полимеризации – процесс инициируется светом, а не химическими катализаторами. Это делает производство более экологичным и позволяет точнее контролировать структуру получаемых полимеров.
Характеристики гибридных фторсодержащих полимеров Сеченовского университета
- Термическая стабильность: до примерно 300°C.
- Поверхностные свойства: выраженная гидрофобность.
- Состав: фторсодержащие мономеры + наноструктуры POSS.
- Метод синтеза: фотоконтролируемая полимеризация.
- Применение: защита от влаги и коррозии, электроника, мембраны, биомедицина.
Фторсодержащие полимеры – один из ключевых классов функциональных материалов в высокотехнологичной промышленности. Тефлон – наиболее известный их представитель.
Разработка Сеченовского университета отличается от классических фторполимеров возможностью точно регулировать архитектуру материала через фотополимеризацию и усиливать свойства через POSS-каркас – это открывает путь к покрытиям с заданными характеристиками для конкретных применений.
